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藝術(shù)留學(xué)

自然光線國(guó)際藝術(shù)教育
始于夢(mèng)想 忠于創(chuàng)造 無(wú)所畏懼 無(wú)限延伸
TO INFINTY AND BEYOND
藝術(shù)院校庫(kù)
Art Schools
熱門(mén)搜索:羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院帕森斯設(shè)計(jì)學(xué)院紐約視覺(jué)藝術(shù)學(xué)院皇家藝術(shù)學(xué)院
羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院
羅德島設(shè)計(jì)學(xué)院
Rhode Island School of Design(RISD)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 攝影專業(yè)
語(yǔ)言要求:托福:93 | 雅思:6.5
帕森斯設(shè)計(jì)學(xué)院
帕森斯設(shè)計(jì)學(xué)院
Parsons The New School for Design(Parsons)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì) | 配飾設(shè)計(jì) | 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 時(shí)尚管理
語(yǔ)言要求:托福:92 | 雅思:7.0
紐約視覺(jué)藝術(shù)學(xué)院
紐約視覺(jué)藝術(shù)學(xué)院
School of Visual Arts(SVA)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 視覺(jué)傳達(dá) | 數(shù)字媒體 | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 時(shí)尚攝影
語(yǔ)言要求:托福:80 | 雅思:6.5
馬里蘭藝術(shù)學(xué)院
馬里蘭藝術(shù)學(xué)院
Maryland Institute College of Art (MICA)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 交互設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 純藝術(shù) | 插畫(huà)設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:80 | 雅思:6.5
普瑞特藝術(shù)學(xué)院
普瑞特藝術(shù)學(xué)院
Pratt Institute(Pratt)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:79 | 雅思:6.5
藝術(shù)中心設(shè)計(jì)學(xué)院
藝術(shù)中心設(shè)計(jì)學(xué)院
Art Center College of Design(ACCD)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 工業(yè)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 純藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福:本科80 研究生100 | 雅思:6.5
芝加哥藝術(shù)學(xué)院
芝加哥藝術(shù)學(xué)院
School of the Art Institute of Chicago(SAIC)
申請(qǐng)難度:5.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 插畫(huà) | 多媒體設(shè)計(jì) | 攝影專業(yè) | 平面設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:82 | 雅思:6.5
紐約時(shí)裝學(xué)院
紐約時(shí)裝學(xué)院
Fashion Institute of Technology(FIT)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì) | 配飾設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:80 | 雅思:6.5
薩凡納藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院
薩凡納藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院
Savannah College of Art and Design(SCAD)
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 珠寶設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:85 | 雅思:6.5
加州藝術(shù)學(xué)院(CCA)
加州藝術(shù)學(xué)院(CCA)
California College of the Arts(CCA)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 交互設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 純藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福:本79 研100 | 雅思:本6.5 研7.5
舊金山藝術(shù)大學(xué)
舊金山藝術(shù)大學(xué)
Academy of Art University(AAU)
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì) | 動(dòng)畫(huà)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:雅思 6.0 | 托福 70
奧蒂斯藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院
奧蒂斯藝術(shù)與設(shè)計(jì)學(xué)院
Otis College of Art and Design(Otis)
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 服裝設(shè)計(jì) | 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 純藝
語(yǔ)言要求:托福: 92 | 雅思: 6.5
羅徹斯特理工學(xué)院
羅徹斯特理工學(xué)院
Rochester Institute of Technology(RIT)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 工業(yè)設(shè)計(jì) | 數(shù)字媒體 | 攝影
語(yǔ)言要求:托福:79 | 雅思:6.5
麻省大學(xué)達(dá)特茅斯分校
麻省大學(xué)達(dá)特茅斯分校
University of Massachusetts Dartmouth
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 插畫(huà) | 數(shù)字媒體 | 珠寶設(shè)計(jì)
語(yǔ)言要求:托福:55 | 雅思:4.5
克利夫蘭藝術(shù)學(xué)院
克利夫蘭藝術(shù)學(xué)院
Cleveland Institute of Art(CIA)
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 室內(nèi)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 攝影
語(yǔ)言要求:托福:79 | 雅思:6.0
華盛頓大學(xué)
華盛頓大學(xué)
University of Washington(UW)
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 建筑學(xué) | 交互設(shè)計(jì) | 純藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福:92 | 雅思:7.0
圣路易斯華盛頓大學(xué)
圣路易斯華盛頓大學(xué)
Washington University in St. Louis(WU)
申請(qǐng)難度:4.5
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 時(shí)裝設(shè)計(jì) | 建筑設(shè)計(jì) | 攝影
語(yǔ)言要求:托福:90 | 雅思:7.0
芝加哥哥倫比亞藝術(shù)學(xué)院
芝加哥哥倫比亞藝術(shù)學(xué)院
Columbia College Chicago(CCC)
申請(qǐng)難度:4.0
優(yōu)勢(shì)專業(yè): 插畫(huà)設(shè)計(jì) | 平面設(shè)計(jì) | 書(shū)籍藝術(shù)
語(yǔ)言要求:托福:72 | 雅思:5.5
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